Edmund真空紫外（VUV）中性密度滤光片
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真空紫外（VUV）中性密度滤光片在120-200纳米之间透射稳定光密度从0.3到3.0不等是拉曼光谱和准分子激光器的理想选择真空紫外（VUV）中性密度滤光片用于衰减120-200纳米的真空紫外线（VUV）范围内的光线，在氟化镁 (MgF2)
耗材描述
真空紫外（VUV）中性密度滤光片
在120-200纳米之间透射稳定
光密度从0.3到3.0不等
是拉曼光谱和准分子激光器的理想选择
真空紫外（VUV）中性密度滤光片用于衰减120-200纳米的真空紫外线（VUV）范围内的光线，在氟化镁 (MgF2) 基片上进行镀膜处理，确保在该范围内提供稳定的透射。金属薄膜，外面包着一层电介质保护层，确保了高质量的滤光片镀膜，以实现可靠的性能。 这些滤光片在120-200纳米范围内的强光谱线上进行了校准，使其适用于利用 Lyman-alpha 121.6nm谱线和157.8及160.8nm的分子氢发射带的应用。 真空紫外（VUV）中性密度滤光片是一系列光谱和准分子激光应用的理想选择。
通用规格
表面质量: | 40-20 | 阻断波长范围 (nm): | 120 - 200 |
基底: | UV Grade MgF2 | 有效孔径 (%): | 80.00 |
传输波前，P-V (λ): | λ/4 | 平行度（弧秒）: | 1 |
涂层: | Metallic Based ND, with Dielectric Over-Coat | ||
产品型号
Dia. (mm) | 光密度 OD（平均） | 厚度 (mm) | 透射率 (%) | 产品编码 |
12.50 | 0.3 | 2.00 | 50.00 | #20-130 |
25.00 | 0.3 | 3.00 | 50.00 | #20-131 |
12.50 | 0.5 | 2.00 | 30.00 | #20-133 |
25.00 | 0.5 | 3.00 | 30.00 | #20-134 |
12.50 | 1.0 | 2.00 | 10.00 | #20-135 |
25.00 | 1.0 | 3.00 | 10.00 | #20-136 |
12.50 | 2.0 | 2.00 | 1.00 | #20-137 |
25.00 | 2.0 | 3.00 | 1.00 | #20-138 |
12.50 | 3.0 | 2.00 | 0.10 | #20-139 |
25.00 | 3.0 | 3.00 | 0.10 | #20-141 |
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