Edmund极紫外平面反射镜
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极紫外平面反射镜Ø**可实现 13.5nm 反射Ø专为极紫外线光束转向和谐波分离而设计Ø5°和45°自动光学检验的可用版本极紫外平面反射镜是多层反射镜，在其设计波长和入射角下实现**反射率。这些反射镜的特点是反射涂层沉积在一个超抛光的单晶硅基
耗材描述
极紫外平面反射镜
Ø**可实现 13.5nm 反射
Ø专为极紫外线光束转向和谐波分离而设计
Ø5°和45°自动光学检验的可用版本
极紫外平面反射镜是多层反射镜，在其设计波长和入射角下实现**反射率。这些反射镜的特点是反射涂层沉积在一个超抛光的单晶硅基板上，表面粗糙度小于3Å RMS. 45°自动光学检验反射镜可用于转向s偏振光束，而 5° 自动光学检验反射镜可用于非偏振光束. 极紫外线反射镜的应用包括相干衍射成像 (CDI) 和材料科学研究。极紫外平面反射镜也可用作高次谐波 (HHG) 光束的谐波选择器.
注意:
附带每个反射镜运行样本的测试数据.
通用规格
基底: | Single Crystal Silicon |
涂层: | Mo/Si Multilayer Top Layer: Silicon |
表面粗糙度（埃）: | <3 RMS |
厚度容差 (mm): | 0.508 |
直径 (mm): | 25.40 ±0.25 |
镀膜类型: | Metal/Semiconductor |
厚度 (mm): | 6.35 |
表面平整度 (P-V): | λ/10 @ 632.8nm |
订购信息：
涂层规格 | AOI (°) | 产品号 |
R >60% @ 13.5nm | 5 | #38-759 |
R >65% @ 13.5nm | 45 | #38-760 |
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