Cytiva 多模式填料 17371911
品牌 | 厂商性质 | 产地 | 货期 |
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Cytiva | 生产商 | 美国 | 现货 |
货号 | 规格 | 价格 | 操作 |
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17371911 | YILIMART - HiTrap 5x1 mL Capto Butyl ImpRes | ¥4,122.00 | 询底价 |
Capto HIC填料的基架为高交联,高流速琼脂糖,配基与传统的HIC填料相同,主要包括苯基(Phenyl),丁基(Butyl)和辛基(Octyl)。根据填料粒径的不同,可分为Capto(平均粒径75um)和Capto ImpRes(平均粒径40um)两个系列。
Capto HIC填料的特点:
增强的物理机械性能
图(1)Capto基架填料优越的物理机械性能。(A)可以使用更高的柱高和层析流速(B)更宽的工艺参数操作窗口,灰色的线为保留时间,单位分钟。
优越的化学耐受性
通过测定总有机碳(TOC)的泄露,显示Capto HIC填料可以在pH范围1-14,温度40℃条件下,耐受一个星期(图2),同时填料的疏水性能和配基密度都没有明显的变化。优越的化学耐受性可以保证层析填料使用后的彻底清洗,增加了层析填料的使用寿命。
图(2)
相同的选择性和分辨率
Capto HIC与HIC Sepharose Fast Flow具有近乎相同的选择性和分辨率,而Capto HIC ImpRes与HIC Sepharose High Performance在选择性和分辨率上也几近相当(图3)。
图(3)Capto Phenyl ImpRes与Phenyl Sepharose high performanc(A),Capto Butyl ImpRes与Butyl Sepharose high performance(B)选择性与分辨率的对比。(1)核糖核酸酶A;(2)溶菌酶;(3)α-胰凝乳蛋白酶原
相当的动态结合载量
通过测定BSA在穿出10%条件下的动态结合载量(Qb,10),对比Capto HIC ImpRes和HIC Sepharose high performance,两者具有相当的动态结合载量(表1)。
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