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氧化铝(Al2O3)镀膜材料

名称:氧化铝镀膜材料 分子式:Al2O3 产品规格:1.0-3.0mm颗粒、柱状 折射率:1.63/550nm 透光范围:200-5000nm 蒸发温度:2000-2200 ℃ 蒸发源:电子枪 应用......  [全文]

抛光垫

SURFIN polishing pads are ideal for use in high precision polishing of all types of semiconductor c......  [全文]

氧化铈抛光粉/研磨粉

CEPOL 系列抛光粉其成份为氧化铈,适用于玻璃的抛光,依不同的玻璃材质的磨耗度与软硬度区分为五种等级。 TAPE CEPOL 101 CEPOL 120 CEPOL 132 CEPOL 201 C......  [全文]

氧化铝抛光粉/研磨粉

FM 系列产品是由高纯度 ( α型结构 ) 的氧化铝所组成,中心粒度由 2.5 微米至 0.05 微米共分五种等级,适用于各种软硬度的金属之研磨抛光。 TYPE 平均粒径 包装 FM.N......  [全文]

金刚石微粉研磨液/抛光液

DIATEC 系列抛光液 主要由钻石微粉所组成的研磨液,可避免加工组件产生刮伤的现象。特别适用于铌酸锂、钽酸锂、蓝宝石、石英等电子材料、光学晶体、金属等抛光。 Particle Size Range......  [全文]

树脂镜片抛光液

POLIPLA 系列抛光液为一种复合型的抛光液,适用于树酯镜片的抛光,其中磨料比例与硬度的适当配合,在大大提高功效的同时,可以完全保障镜片表面的高度光洁。 Type 103 308 107A 700......  [全文]

CMP专用抛光液

PLANERLITE系列化学机械抛光(CMP)专用抛光液   PLANERLITE系列抛光液是专门设计用于化学机械抛光(CMP)的抛光液,是制造超大规模集成电路(ULSI)电子器件的关键工......  [全文]

砷化镓专用抛光粉

INSEC 系列抛光粉 INSEC 系列产品是针对各种半导体材料如砷化镓GaAs、磷化镓GaP、磷化铟InP等独特的理化特性所研发出来的抛光粉。可直接使用于此类半导体材料的抛光。 Type Appl......  [全文]

蓝宝石专用抛光液

COMPOL 系列抛光液 COMPOL 系列抛光液主要由高纯度的胶态氧化硅微粒所组成,可避免加工组件产生刮伤的现象。特别适用于铌酸锂、钽酸锂、蓝宝石、石英等电子材料、光学晶体、金属等抛光。 Prin......  [全文]

硅片专用抛光液

  GLANZOX 系列硅片专用抛光液 GLANZOX 系列抛光液是专用于硅芯片的抛光液,随着近年来的硅组件电路的发展,对硅芯片面精度的要求已越来越严格。而 GLANZOX 系列产品正是针......  [全文]