名称：氧化铝镀膜材料 分子式：Al2O3 产品规格：1.0-3.0mm颗粒、柱状 折射率：1.63/550nm 透光范围：200-5000nm 蒸发温度：2000-2200 ℃ 蒸发源：电子枪 应用......  [全文]

SURFIN polishing pads are ideal for use in high precision polishing of all types of semiconductor c......  [全文]

CEPOL 系列抛光粉其成份为氧化铈，适用于玻璃的抛光，依不同的玻璃材质的磨耗度与软硬度区分为五种等级。 TAPE CEPOL 101 CEPOL 120 CEPOL 132 CEPOL 201 C......  [全文]

FM 系列产品是由高纯度 ( α型结构 ) 的氧化铝所组成，中心粒度由 2.5 微米至 0.05 微米共分五种等级，适用于各种软硬度的金属之研磨抛光。 TYPE 平均粒径 包装 FM.N......  [全文]

DIATEC 系列抛光液 主要由钻石微粉所组成的研磨液，可避免加工组件产生刮伤的现象。特别适用于铌酸锂、钽酸锂、蓝宝石、石英等电子材料、光学晶体、金属等抛光。 Particle Size Range......  [全文]

POLIPLA 系列抛光液为一种复合型的抛光液，适用于树酯镜片的抛光，其中磨料比例与硬度的适当配合，在大大提高功效的同时，可以完全保障镜片表面的高度光洁。 Type 103 308 107A 700......  [全文]

PLANERLITE系列化学机械抛光（CMP）专用抛光液   PLANERLITE系列抛光液是专门设计用于化学机械抛光（CMP）的抛光液，是制造超大规模集成电路（ULSI）电子器件的关键工......  [全文]

INSEC 系列抛光粉 INSEC 系列产品是针对各种半导体材料如砷化镓GaAs、磷化镓GaP、磷化铟InP等独特的理化特性所研发出来的抛光粉。可直接使用于此类半导体材料的抛光。 Type Appl......  [全文]

COMPOL 系列抛光液 COMPOL 系列抛光液主要由高纯度的胶态氧化硅微粒所组成，可避免加工组件产生刮伤的现象。特别适用于铌酸锂、钽酸锂、蓝宝石、石英等电子材料、光学晶体、金属等抛光。 Prin......  [全文]

  GLANZOX 系列硅片专用抛光液 GLANZOX 系列抛光液是专用于硅芯片的抛光液，随着近年来的硅组件电路的发展，对硅芯片面精度的要求已越来越严格。而 GLANZOX 系列产品正是针......  [全文]