电镜耗材
透射电镜用聚焦离子束FIB硅/氮化硅/二氧化硅纳米孔膜
品牌 | 厂商性质 | 产地 | 货期 |
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产品介绍
SIWD硅膜适合于电传导应用,根据不同测试可镀不同材料的涂层,可用于生物方面;该膜具有不同大小的基片、孔和膜厚。
NIWD膜是由低应力、平滑的氮化硅制备,具有电绝缘性和疏水性;根据不同测试可镀不同材料的涂层,可用于生物方面;该膜具有不同大小的基片、孔和膜厚。
OXWD二氧化硅膜具有电绝缘性和亲水性;根据不同测试可镀不同材料的涂层,可用于生物方面;该膜具有不同大小的基片、孔和膜厚。
采用聚焦离子束FIB法切削加工标准SIWD/NIWD/OXWD薄膜而得,适用于生物方面的不同应用。 可根据客户的需求生产不同基片和窗口大小、薄膜的厚度的产品。孔直径有20nm、100nm和200nm三种规格。
基片参数
材料:Si;
涂层:无/根据需要镀不同涂层;
厚:300μm;
宽:6000μm;
长:6000μm;
薄膜参数
材料:Si;
厚:200nm;
薄膜:200x200μm;
孔:600x600μm;
孔参数
孔排列:0x1/2x2/5x5;
直径:20nm/100nm/200nm;
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注:该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案,不可用于临床诊断或治疗等相关用途