随着半导体技术的高速发展，对超净高纯试剂的要求越来越高。高纯度双氧水是电子工业中一种十分重要的化学品。主要用于集成电路生产过程中硅片的清洗和光刻胶的剥离。双氧水中的有机物、金属杂质和非金属杂质的存在会严重影响双氧水在电子工业的应用。而杂质离子的存在会对半导体电路性能和蚀刻作用产生不利影响。电感耦合等离子体发射光谱法具有快速、同时测定各种化学工业品中痕量元素的能力。本文采用iCAP PRO系列电感耦合等离子体发射光谱仪测试高纯双氧水中杂质元素，样品无需稀释直接进样，减少环境和水对测定的影响，避免沾污，采用标准加入法消除基体干扰，可以直接进样测定高达50%浓度的双氧水，提高了方法的准确性和可靠性。