Edmund近红外 (NIR) 线性偏振膜
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近红外 (NIR) 线性偏振膜特别适合 NIR 偏振应用800 - 2200nm 下的消光比 >400:1在各种波长范围内均拥有高效率采用耐用的聚合物基片近红外 (NIR) 线性偏振膜由耐用的聚合物基片组成,特别适合从可见光到近红外 (
近红外 (NIR) 线性偏振膜特别适合 NIR 偏振应用800 - 2200nm 下的消光比 >400:1在各种波长范围内均拥有高效率采用耐用的聚合物基片近红外 (NIR) 线性偏振膜由耐用的聚合物基片组成,特别适合从可见光到近红外 (