layertec反射镜，输出耦合器和镜头2-分析测试百科网

layertec反射镜，输出耦合器和镜头2

面议

反射镜，输出耦合器和镜头图1：随机偏光（a）的反射镜（AOI = 45°）在193 nm下的测量的反射率和透射光谱（a）和在两面都涂有193 nm氟化物AR涂层的CaF2窗口（b）Ø所有氟化物系统均确保高反射率和高损伤阈值ØPR涂层的公差为：

400-6699-117 转1000

耗材描述

反射镜，输出耦合器和镜头

图1：随机偏光（a）的反射镜（AOI = 45°）在193 nm下的测量的反射率和透射光谱（a）和在两面都涂有193 nm氟化物AR涂层的CaF2窗口（b）

Ø所有氟化物系统均确保高反射率和高损伤阈值

ØPR涂层的公差为：

Ø± 2% for R = 10 ... 30 %

Ø± 3% for R = 30 ... 75 %

Ø± 2% for R = 75 ... 90 % and

Ø± 1% for R > 90 %

ØCaF2（肖特公司193nm受激准分子级）和熔融石英的高质量镜面基板，窗口片和透镜

Ø根据客户要求开发和生产特定组件，例如分束器和可变衰减器

Ø单波长增透膜，剩余反射率在AOI = 0°时R <0.25％，在AOI = 45°时R <0.6％（非偏振光）

Ø宽带和多波长增透膜

可变衰减器

图2：在不同的AOI（a）和透射率与AOI（b）下测得的可变衰减器的透射率光谱; 透射率从AOI = 0°时的T> 88％到AOI = 45°时的T <2％

Ø可根据要求提供不同传输范围的衰减器

Ø衰减器可以与CaF2熔融石英的AR涂层补偿板一起提供

铝反射镜

图3：优化了针对193nm的受保护Al镜（a）和针对193nm的增强Al镜（AOI = 45°（b））的测量反射光谱

增强铝镜：Rp
> 93%
Rs
> 99%
Rr
> 96%

有关铝镜的更多信息，请参见目录中的96-97页。

标准ArF激光元件的技术参数

Coating	Substrate	Damage threshold*	Lifetime test

Fluoride coatings
AR (0°, 193nm) R < 0.25%	CaF2	4 – 5 J/cm2	2.5 x 108 pulses, no damage**
AR (0°, 193nm) R < 0.25%	fused silica	2 – 3 J/cm2
PR (0°, 193nm) R = 25%	CaF2	3 – 4 J/cm2	2.5 x 108 pulses, no damage**
PR (0°, 193nm) R = 50%	CaF2	2 – 3 J/cm2	109 pulses***
HR (0°, 193nm) R > 96%	CaF2	2 – 3 J/cm2	109 pulses*, no damage 1010 pulses, no damage 4 x 109 pulses***, no damage
HR (45°, 193nm) R > 95% (random polarized)	CaF2	2 – 3 J/cm2
Oxide coatings
HR (0°, 193nm) R>92%	fused silica	<1 J/cm2