A301821-1GalARF photoresist

耗材描述

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• 分子量
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• MDL号
• PubChem编号

属性

描述

应用	一般用于芯片行业
产品介绍	光刻胶是一种有机化合物，它被紫外光曝光后，在显影溶液中的溶解度会发生变化。硅片制造中所用的光刻胶以液态涂在硅片表面，而后被干燥成胶膜。光刻胶主要是由树脂、感光剂、溶剂及添加剂等不同的材料，按照一定的比例配制而成。其中树脂是粘合剂，感光剂是一种光活性极强的化合物，它在光刻胶内含量与树脂相当，两者同时溶解在溶剂中。以液态形式保存，以便于使用。
别名	;

AI问答

• ARF photoresist配套的仪器设备？
• ARF photoresist可以搭配的相关耗材试剂？
• ARF photoresist的详细规格参数是什么？
• ARF photoresist的使用的注意事项？

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