SIWD硅膜适合于电传导应用，根据不同测试可镀不同材料的涂层，可用于生物方面；该膜具有不同大小的基片、孔和膜厚。 

NIWD膜是由低应力、平滑的氮化硅制备，具有电绝缘性和疏水性；根据不同测试可镀不同材料的涂层，可用于生物方面；该膜具有不同大小的基片、孔和膜厚。 

OXWD二氧化硅膜具有电绝缘性和亲水性；根据不同测试可镀不同材料的涂层，可用于生物方面；该膜具有不同大小的基片、孔和膜厚。

采用低应力Si/Si3N4/SiO2薄膜制备，可根据用户需要镀不同的材料.基片尺寸、窗口大小、膜厚可根据需要定制。

基片参数
材料：Si；
涂层：无/根据需要镀不同涂层；
厚：300μm；
宽：6000μm；
长：6000μm；

薄膜参数
材料：Si；
厚：200nm；
薄膜：200x200μm；
孔：600x600μm；