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六氯乙硅烷,13465-77-5,>98.0%(T)
品牌 | 厂商性质 | 产地 | 货期 |
---|---|---|---|
阿拉丁 | 总代理 | 中国 | 现货 |
性能特点
六氯乙硅烷(HCDS)是一种氯硅烷,可用作生产乙硅烷的前体。它是一种用于生产硅膜和氮化硅基膜的脱氧剂应用: HCDS可用于通过化学气相沉积(CVD)制备二氧化硅气凝胶,其有望用作封装剂和绝热体
货号 | 规格 | CAS号 | 价格 | 操作 |
---|---|---|---|---|
H157333-25g | 25g | 13465-77-5 | ¥3,499.90 | 询底价 |
H157333-5g | 5g | 13465-77-5 | ¥1,199.90 | 询底价 |
H157333-1g | 1g | 13465-77-5 | ¥399.90 | 询底价 |
中文名:六氯乙硅烷
英文名:Hexachlorodisilane
中文别名:六氯化二硅 | 1,1,1,2,2,2-六氯二硅烷
英文别名:perchlorodisilane | J-006570 | 9Z754456JM | Q15546028 | Disilicon hexachloride | Hexachlorodisilane, 96% | MFCD00011599 | AKOS015848623 | 1,1,1,2,2,2-Hexachlorodisilane | Si2Cl6 | Disilane, 1,1,1,2,2,2-hexachloro- | Hexachlorodisilane | hexachloro-disilan
纯度:>98.0%(T)
货号:H157333
Cas号:13465-77-5
存储温度:-20°C储存,充氩
产品介绍:
六氯乙硅烷(HCDS)是一种氯硅烷,可用作生产乙硅烷的前体。它是一种用于生产硅膜和氮化硅基膜的脱氧剂
应用:
HCDS可用于通过化学气相沉积(CVD)制备二氧化硅气凝胶,其有望用作封装剂和绝热体。它也可用于通过CVD合成1,1,1,2,2,2-六氨基乙硅烷,其可形成微电子应用的硅基薄膜。
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注:该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案,不可用于临床诊断或治疗等相关用途