铬蚀刻剂，标准

中文名：铬蚀刻剂

英文名：Chromium etchant

纯度：标准

货号：C476102

产品介绍：

硝酸铈铵基蚀刻剂。室温下蚀刻速率为40埃/秒。只需用去离子水冲洗干净即可蚀刻。铬蚀刻剂是铬基溶液，可从底物移除多余金属。这些蚀刻剂主要用于金属表面处理和电子工业。蚀刻速率为4 mm/s，可用于蚀刻镍、铜和铬基多余金属。

应用

该产品可蚀刻铝、铬、铜、镍、GaAs。它能表面氧化硅、钽/TaN，但对Si3N4, SiO2, Ti, 和 W表面没有影响用于室温或高温条件。蚀刻干净，省去中间清洗环节。蚀刻温度随膜的厚度而改变。室温下蚀刻时间在 15 到 60 秒之间。注意，应在通风良好的通风橱内处理铬蚀刻剂。

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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途