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四(二甲基胺基)锆(IV)，19756-04-8，电子级, ≥99.99% trace metals basis
| 品牌 | 厂商性质 | 产地 | 货期 |
|---|---|---|---|
| 阿拉丁 | 总代理 | 中国 | 现货 |
性能特点
应用四（二甲基氨基）锆 (IV)可用作锆原子层沉积的前驱物，其应用范围从气体传感器到微电子学中的高k电介质。
| 货号 | 规格 | CAS号 | 价格 | 操作 |
|---|---|---|---|---|
| T432279-5g | 5g | 19756-04-8 | ￥1,248.90 | 询底价 |
| T432279-1g | 1g | 19756-04-8 | ￥999.90 | 询底价 |
中文名：四(二甲基胺基)锆(IV)
英文名：Tetrakis(dimethylamido)zirconium(IV)
中文别名：TDMAZ, 四(二甲基氨基)锆(IV)
英文别名：TETRAKIS(DIMETHYLAMINO)ZIRCONIUM|19756-04-8|TDMAZ|Zirconium, tetrakis(dimethylamino)-|Tetrakis(dimethylamido)zirconium(IV)|17828-33-0|Tetrakis(dimethylamino)zirconium(IV)|dimethylazanide;zirconium(4+)|TDMAZ: Zr[N(CH3)2]4|MFCD00239502|Zr(NMe2)4|SCHEMBL7714
纯度：电子级, ≥99.99% trace metals basis
货号：T432279
Cas号：19756-04-8
存储温度：2-8°C储存,充氩
产品介绍：
应用
四（二甲基氨基）锆 (IV)可用作锆原子层沉积的前驱物，其应用范围从气体传感器到微电子学中的高k电介质。
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