Nd：YAG和Nd：YVO4激光的高次谐波组件

Nd：YAG和Nd：YVO4激光的谐波被广泛用于材料加工以及测量应用。在这些页面上，我们介绍了用于第四次谐波（266nm）和第五次谐波（213nm）的双波长反射镜和分离器。所有设计均根据客户要求进行计算。

图1：图1：266nm和355nm双波长转向镜的反射光谱（a）和长波谐波和地面波长的四次谐波的分离器（b）

F

图2：从长波长谐波和地面波长（b）测得的五次谐波转向镜的反射光谱（a）和五次谐波分离器的反射光谱；CaF2上的氟涂层

表1：紫外线谐波分离器的通用规格

* CaF2上的氟涂层

图3：二次谐波与第四次谐波分离器的反射光谱：

（a）：HR（0°，532nm）> 99.5％+ R（0°，266nm）<10％（背面未镀膜）

（b）：HR（0°，532nm）> 99.9％+ R（0°，266nm）<5％（背面未镀膜）

266nm的组件通常通过电子束蒸发产生。这些涂层显示出很高的损伤阈值，但是在可见光谱范围内的反射率被限制为R> 99.5％（见图3a）。关于用于紫外线的溅射涂层的最新研究结果表明，可以生产出在VIS中具有明显改善的反射率的隔离膜，它们在紫外线下具有相似的特性（见图3b）。

图4：第四和第五谐波的隔板的反射光谱：

对于非偏振光，HRr（45°，266nm）> 98％+ Rr（45°，213nm）<10％

a）为低杂散损耗而优化的氧化物涂层（背面未涂层）

b）氟化物涂层具有较高的激光诱导损伤阈值（背面未涂层）

213nm的五次谐波是氧化物涂层的关键波长，因为氧化铝的吸收边缘始于该波长范围。对于高功率应用，我们建议根据ArF准分子激光镜技术生产的氟化钙上的氟化涂层。

图5：薄膜偏振片在266nm（a）和213nm（b）的反射光谱：

a）HR（56°，266nm）> 98％+ Rp（56°，266nm）<1％

b）HR（56°，213nm）> 97％+ Rp（56°，213nm）<5％;

请注意，由于上述集合损失，Tp只有75％左右

磁控溅射使我们能够为Nd：YAG激光器的第四和第五谐波提供薄膜偏振片。