RYMO平面刻线衍射光栅（50x50x9.5mm）
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平面刻线衍射光栅（50x50x9.5mm）制作原始或者母光栅的初始步骤是对基底材料的选择，通常为玻璃或者铜。将基底材料抛光至高平整度并对其镀一层很薄的铝膜。刻划平行度和刻线的等距需要漫长的时间进行调整，可能需要花费几天进行设置并在实际刻划之前
平面刻线衍射光栅（50x50x9.5mm）
制作原始或者母光栅的初始步骤是对基底材料的选择，通常为玻璃或者铜。将基底材料抛光至高平整度并对其镀一层很薄的铝膜。刻划平行度和刻线的等距需要漫长的时间进行调整，可能需要花费几天进行设置并在实际刻划之前进行测试。刻划机必须能够在每次刻划后让钻石刀头按精路线折回，并按预定量对基底进行刻划。刻线的平行度和位移必须精控制。
75l/mm @10.6μm
100l/mm @10.6μm
150l/mm @10.6μm
300l/mm @300nm
300l/mm @500nm
300l/mm @1000nm
300l/mm @3.5μm
450l/mm @3.1μm
600l/mm @250nm
600l/mm @300nm
600l/mm @400nm
600l/mm @500nm
600l/mm @750nm
600l/mm @1000nm
600l/mm @1250nm
600l/mm @1600nm
1200l/mm @250nm
1200l/mm @300nm
1200l/mm @400nm
1200l/mm @500nm
1200l/mm @750nm
1200l/mm @1000nm
1800l/mm @500nm
特征
材料： | 浮法玻璃 |
表面光洁度： | 60-400 |
尺寸误差： | ±0.5 mm |
厚度公差: | ±0.5 |
效率: | 60%~80% @闪耀波长 |
有效孔径: | 90% |
损伤阈值: | 350mJ/cm2 40W/cm2 |
产品编号 | 产品名称 | 尺寸 | 刻线数 | 闪耀波长 | 闪耀角 |
378521 | 刻线式光栅 50x50x9.5mm 300Lines/mm 浮法玻璃 | 50x50x9.5mm | 300Lines/mm | 300nm | 2°34' |
378522 | 刻线式光栅 50x50x9.5mm 300Lines/mm 浮法玻璃 | 50x50x9.5mm | 300Lines/mm | 500nm | 4°18 |
378523 | 刻线式光栅 50x50x9.5mm 300Lines/mm 浮法玻璃 | 50x50x9.5mm | 300Lines/mm | 1000nm | 8°36' |
378531 | 刻线式光栅 50x50x9.5mm 600Lines/mm 浮法玻璃 | 50x50x9.5mm | 600Lines/mm | 300nm | 5°9' |
378532 | 刻线式光栅 50x50x9.5mm 600Lines/mm 浮法玻璃 | 50x50x9.5mm | 600Lines/mm | 400nm | 6°53' |
378543 | 刻线式光栅 50x50x9.5mm 600Lines/mm 浮法玻璃 | 50x50x9.5mm | 600Lines/mm | 500nm | 8°37' |
378544 | 刻线式光栅 50x50x9.5mm 600Lines/mm 浮法玻璃 | 50x50x9.5mm | 600Lines/mm | 750nm | 13°0' |
378545 |
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