SIWD硅膜适合于电传导应用，根据不同测试可镀不同材料的涂层，可用于生物方面；该膜具有不同大小的基片、孔和膜厚。

NIWD膜是由低应力、平滑的氮化硅制备，具有电绝缘性和疏水性；根据不同测试可镀不同材料的涂层，可用于生物方面；该膜具有不同大小的基片、孔和膜厚。

OXWD二氧化硅膜具有电绝缘性和亲水性；根据不同测试可镀不同材料的涂层，可用于生物方面；该膜具有不同大小的基片、孔和膜厚。 

采用聚焦离子束FIB法切削加工标准SIWD/NIWD/OXWD薄膜而得，适用于生物方面的不同应用。 可根据客户的需求生产不同基片和窗口大小、薄膜的厚度的产品。孔直径有20nm、100nm和200nm三种规格。

基片参数
材料：Si；
涂层：无/根据需要镀不同涂层；
厚：300μm；
宽：6000μm；
长：6000μm；

薄膜参数
材料：Si；
厚：200nm；
薄膜：200x200μm；
孔：600x600μm；

孔参数
孔排列：0x1/2x2/5x5；
直径：20nm/100nm/200nm；